文(wen)章(zhang)來源：中國(guo)兵器(qi)裝備集團(tuan)公司 發(fa)布時(shi)間：2009-11-07
近日，中國(guo)兵器(qi)裝(zhuang)備(bei)(bei)集團公司(si)成(cheng)(cheng)功研(yan)制(zhi)出國(guo)內(nei)首(shou)套(tao)磁控濺(jian)射鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)，填補了(le)該項目國(guo)內(nei)空(kong)(kong)白，實現(xian)了(le)高(gao)精度(du)(du)濺(jian)射鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)的國(guo)產化(hua)，滿足我國(guo)當前大批量、穩定(ding)鍍(du)制(zhi)多種高(gao)品質精密光學(xue)薄膜(mo)(mo)的需求，為(wei)(wei)我國(guo)今后一(yi)(yi)段時期的鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)研(yan)發提(ti)供(gong)了(le)方向。該機(ji)型由集團公司(si)自(zi)主(zhu)研(yan)制(zhi)生產，具有完(wan)全自(zi)主(zhu)知識(shi)產權，其技(ji)術(shu)水(shui)平處(chu)于國(guo)內(nei)領先，創造了(le)國(guo)內(nei)鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)研(yan)制(zhi)的4個第(di)一(yi)(yi)次：第(di)一(yi)(yi)次采(cai)用(yong)磁控濺(jian)射和電子(zi)蒸鍍(du)兩套(tao)鍍(du)膜(mo)(mo)系統，將蒸鍍(du)技(ji)術(shu)與濺(jian)射技(ji)術(shu)在(zai)(zai)一(yi)(yi)臺機(ji)器(qi)上(shang)實現(xian)成(cheng)(cheng)功覆蓋，在(zai)(zai)國(guo)內(nei)首(shou)次具備(bei)(bei)了(le)蒸鍍(du)和濺(jian)射兩種功能(neng)為(wei)(wei)一(yi)(yi)體的兩用(yong)機(ji)型，減少(shao)了(le)設(she)(she)備(bei)(bei)的采(cai)購(gou)成(cheng)(cheng)本和能(neng)源消耗；第(di)一(yi)(yi)次在(zai)(zai)真空(kong)(kong)室(shi)的設(she)(she)計上(shang)采(cai)用(yong)雙真空(kong)(kong)室(shi)，有利于提(ti)高(gao)工作效(xiao)率、保護靶材和節能(neng)降耗；第(di)一(yi)(yi)次運用(yong)了(le)分子(zi)泵(beng)技(ji)術(shu)，使(shi)極限真空(kong)(kong)實現(xian)一(yi)(yi)次性(xing)達標；在(zai)(zai)控制(zhi)部分第(di)一(yi)(yi)次采(cai)用(yong)工控機(ji)控制(zhi)，提(ti)高(gao)了(le)設(she)(she)備(bei)(bei)的自(zi)動化(hua)程(cheng)度(du)(du)，避免(mian)了(le)人為(wei)(wei)因素造成(cheng)(cheng)的失(shi)誤。